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真空燒結爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，專門碳化物、氮化物及氧化物陶瓷在真空或保護氣氛中燒結成制品，也可用于金屬材料的熱處理。主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

真空燒結爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，專門碳化物、氮化物及氧化物陶瓷在真空或保護氣氛中燒結成制品，也可用于金屬材料的熱處理。主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。

氣壓燒結爐是指首先在低壓狀態(tài)下進行燒結工藝，然后在常壓下燒結材料達到疲勞狀態(tài)，后是在高氣壓下燒結(結果是進一步的增加材料疲勞狀態(tài)并迅速的消除材料中的應力),在高溫高氣壓燒結工藝后，材料的各方面機械性能(硬度，強度，韌性等)都優(yōu)于普通的燒結工藝。

真空燒結爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，在抽真空狀態(tài)下，石墨電阻產(chǎn)生熱量，使爐腔內產(chǎn)生高溫，通過熱輻射傳導到材料上，適用于科研、軍工單位對難熔合金如鎢、鉬及其合金的粉末成型燒結。

真空退火爐為氣體保護多用途爐，可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對藍寶石退火，還原、燒結和表面處理等工藝需要，廣泛應用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產(chǎn)品、半導體器件、厚膜電路、磁性材料等領域。

熱誘導的化學氣相滲透(英語:chemical vaporinfiltration ,CV)是一個與CVD有關的技術，以在基體材料滲入多孔或纖維預成型件以制備由復合材料制成的部件具有改善的機械性能，耐腐蝕性，耐熱沖擊性和低殘余應力。